大型磁控溅射仪
· 2022-09-15
| 大型磁控溅射仪 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr210708012022年9月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr21070801 |
| 采购项目名称： | 大型磁控溅射仪 |
| 预算金额： | 1240.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A033499其他专用仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 1.采购标的名称：大型磁控溅射仪；2.采购标的要求：磁控溅射系统是目前制备超导超薄薄膜的主流方式，研制高速SNSPD器件将采用阵列器件的方式实现探测器对单光子信号的高速高效探测，超薄薄膜的制备将是器件研制的基础和关键。随着阵列规模的增加，对大面积薄膜的超导性能和均匀性要求更加严苛，目前本课题组的系统无法满足项目研制的需要。拟购置的大型磁控溅射系统既可以满足8英寸以下高均匀性薄膜的制备要求，保证了样品的高度纯净，同时送样、清洗、薄膜制备等可通过自动控制，有效提高了制备的效率和可重复性。购置大型磁控溅射仪1台：溅射室数量：≥2，至少可扩展4腔室；单溅射阴极室溅射靶尺寸：≥8英寸；样品尺寸兼容4-8英寸和更小基片，可以自动进行清洗、传样和薄膜制备；样品室真空：优于2.0×10-5Pa；样品厚度均匀性：优于±10%（6英寸样品边缘10mm以内）；电源功率：直流电源≥ 2 kW,射频电源≥ 1kW，质保期：1年。 |
| 预计采购时间： | 2022-09 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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