高真空磁控溅射薄膜沉积系统
· 2025-06-05
| 申购单号： | CB102942025000016 | 签约时间： | None |
| 申购主题： | 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | 送货时间： | 发布竞价结果后7天内送达 |
| 采购单位： | 河海大学 | 安装要求： | 免费上门安装（含材料费） |
| 报价要求： | A | 收货地址： | 江苏省/常州市/金坛区/**** |
| 发票类型： | 增值税普通发票 | 币种： | 人民币 |
| 预算： | None | 付款方式： | 货到验收合格后付款 |
| 备注说明： | 定制磁控溅射，并与手套箱集成。1.1用于制备：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝、氧化钛、氧化锆、ITO、AZO、氮化钽、氮化钛等。1.2多靶材倾斜共溅射的方式，可沉积混合物/化合物薄膜。1.3在溅射过程中加入氧、氮或其它活性气体,可沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜。1.4设备简单易于控制、镀膜面积大、薄膜附着力强，尤其适合高熔点和低蒸汽压的材料。1.5磁控溅射技术是工业镀膜的主要技术之一，易于科研成果转化，是新技术向工业领域推广的最经济有效的方法之一。 |
| 采购内容 | 数量 |
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