高真空物理气相沉积系统（jlu-kc24183）采购公告
· 2024-12-09
| 项目名称 | 高真空物理气相沉积系统 | 项目编号 | JLU-KC24183 |
|---|---|---|---|
| 公示开始日期 | 2024-12-09 08:15:33 | 公示截止日期 | 2024-12-12 09:00:00 |
| 采购单位 | 吉林大学 | 付款方式 | 货到验收合格办理相关手续后100%付款。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | 国内合同签订后90个工作日内 | |
| 预算 | ￥390,000.00 | ||
| 发票要求 | 增值税发票（一般纳税人须开具增值税专用发票） | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 收货地址 | 吉林大学 |
采购清单1
| 采购物品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 高真空物理气相沉积系统 | 1 | 台 | 其他电工、电子生产设备 |
| 品牌 | 创一 |
|---|---|
| 规格型号 | JDP450 |
| 技术参数 | 主要配置包括： 该设备为单室超高真空磁控溅射设备，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、加热系统、射频电源、直流电源，工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统、控制系统和手套箱等部分组成。 1 磁控室 1.1 磁控室腔体 1 台 主溅射室真空腔体为内尺寸约Ф450×400mm 立式圆柱 D 形腔体，材质为高真空专业不锈 钢，内外表喷丸，电解抛光处理。前开结构，真空室盖上有一个 KF200 法兰接基片加热器 及转架与基片挡板机构。盖与腔体间采用胶圈密封。真空室后侧有一个 CF150 刀口法兰接 CF150 弯管机构，连接 FF700 型高性能分子泵。其余各口采用无氧铜垫圈密封。 真空室 壁带有匀气环。 1.2 前开门结构 1 套 1.3 样品匀气环 1 套 安装在真空室侧壁，出气孔直对样品表面。用于样品表面通入反应气体。专用于反应溅射。 可以有效防止靶中毒。 1.4 观察窗 1 套，胶圈带挡板。 1.5 φ10 充气阀 1 台，用于通入反应气体。 1.6 CF16 角阀 1，用于放气开腔。 1.7 CF35 角阀 1 台，预抽管道上的截止阀，通径Ф35mm。 1.8 IF150 弯头 1 套，安装于真空室与分子泵之间。通径Ф 150mm。 1.9 IF150 板阀 1 台，安装于分子泵口。电动截止阀门。通径Ф 150mm。 1.10 涡轮分子泵 1 套，北京抽速 700L/S，高性能分子泵。极限真空度高。 1.11 机械泵 1 台，抽速 8L/S，合 l 级机械泵。 1.12 带放气电磁阀 1 只，KF40，安装于机械泵口，防止返油。 1.13 电磁阀 1 只 ，KF40 ，安装于分子泵口。用于保护分子泵。 1.14 泵阀三通件 1 套 安装在工作台底部，用于机械泵到预抽和分子泵的转接。 1.15 液压波纹管路 2 套 一路用于前级管路，一路用于预抽管路，一路为机械泵管路 1.16 四芯电极法兰 1 只，4 芯 1.8 电极 1.17 磁控靶 3 台 其中Φ2 英寸圆形磁控溅射永磁靶射频和直流兼容，都可沿轴向在线（高真空工作环境下）手动移动，移动距离范围（相对于衬底）40～8 |
尊贵的用户您好，以上正文后半部分为隐藏内容，完整详情请咨询客服：18995537323（同微信）
文章推荐：
更多商机查看，下载保标APP
扫码关注小程序，获取商机更容易
