材料电辅助加工平台项目（三靶材磁控溅射真空镀膜）
· 2024-07-16
寻源单号：SOU493471564777472
需求报名截止时间：2024-07-22 23:59:59
需求交付时间：2024-10-30
币种：CNY
所属大类：金属加工设备
税率：13%
材料电辅助加工平台项目（三靶材磁控溅射真空镀膜）
项目供货范围及数量：
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| n 序号 n | n n 名称 n | n n 技术参数 n | n n 数量 n | n n 备注 n | n
| n 1 n | n n 溅射样品台 n | n n 1.样品台承载最大样品尺寸200mm×200mm； n2.样品台最高加热600°C，程序控温（温度控制柜可显示）； n3.样品台可自动旋转，转速连续可调，转速≥60rpm（速度控制柜可显示），基体配备独立自动开合挡板。 n | n n 1套 n | n n n | n
| n 2 n | n n 真空系统 n | n n 1.高真空分子泵（抽速不低于1200L/s）+机械泵+高真空插板阀结构； n2.镀膜室的极限真空可以达到10-5Pa； n3.真空测量系统范围：1.0x105-1.0x10-5Pa（压强控制柜可显示）。 n | n n 1套 n | n n n | n
| n 3 n | n n 气路系统 n | n n 1.三路进气（氮气一路，氩气两路）； n2.采用闭环控制恒压控制系统，保证镀膜室工作气压稳定。 n | n n 1套 n | n n 40L高纯氩气2瓶，40L高纯氮气2瓶 n | n
| n 4 n | n n 靶枪 n | n n 1.要求4英寸磁控溅射靶3支； n2.靶角度可调，每支靶配镀立自动挡板。 n | n n 1套 n | n n 高纯（99.9%以上）铝、铜、铬、镍靶材各3个 n | n
| n 5 n | n n 溅射电源 n | n n 1.直流电源配3台（0~500W可调）、射频电源1台（0~500W可调）、直流脉冲偏压电源1台，电源支持系统设置镀膜工艺参数； n2.靶角度可调，每支靶配镀立自动挡板。 n | n n 1套 n | n n n | n
| n 6 n | n n 溅射室（真空腔体） n | n n 1.满足靶材与基体放置以及与真空系统匹配； n2. 腔体材质：SUS304不锈钢，侧开门方式，包含4英寸真空观察窗2个； n3. n | n n 1套 n | n n n | n
| n 7 n | n n 控制系统 n | n n 1.采用PLC+触摸屏自动控制系统，可实时设定镀膜工艺参数，包括真空度、镀膜功率、样品台温度； n2.可实现自动抽气、自动泄气、自动程序设定； n3.配套循环制冷水机1台，为设备部件提供冷却保护。 n | n n 1套 n | n n n | n
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