全自动磁控溅射系统
· 2024-04-03
| 全自动磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 北京理工大学2024年5至6月政府采购意向 |
| 采购单位： | 北京理工大学 |
| 采购项目名称： | 全自动磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 180.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02100111自动成套控制系统 |
| 采购需求概况： | 真空度小于5E-8Torr；沉积腔室配置4个3英寸超高真空共溅射靶枪；靶材尺寸：80mm*60mm厚的圆靶材；样品尺寸5英寸以上；1个750W直流电源，其中1个电源自带4路切换器，可切换连接4个靶枪；可兼容6英寸及其以下尺寸的基片，连续自动旋转速率0-20 RPM，基片最高加热温度800℃，PID温控精度+/-1℃；成膜均匀性：±2.5%。 |
| 预计采购时间： | 2024-05 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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