多靶磁控溅射镀膜设备（xhgd-cg-2024118）采购公告
· 2024-03-25
| 项目名称 | 多靶磁控溅射镀膜设备 | 项目编号 | XHGD-CG-2024118 |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2024-03-25 19:13:32 | 公告截止日期 | 2024-03-27 21:00:00 |
| 采购单位 | 西湖大学光电研究院 | 付款方式 | 合同签订预付50%，验收合格后付50% |
| 联系人 | 联系电话 | ||
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | 签约后60个自然日 | |
| 预算总价 | 490000.0 | ||
| 收货地址 | 杭州市富阳区富春湾新城西湖大学光电研究院 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
| ||
采购清单
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 多靶磁控溅射镀膜设备 | 1 | 台 |
| 品牌 | |
|---|---|
| 型号 | |
| 技术参数及配置要求 | 1.真空腔室：净空间尺寸不大于Φ550×H500mm，要求前开门，前门需配备观察窗，观察窗玻璃尺寸不小于Φ95mm；配至少一套方便拆卸的防污隔板；腔室、法兰、管道、防污隔板等均采用304无磁不锈钢材质；2.真空系统：主泵分子泵抽速不小于2500m3/h，双级旋片泵抽速不小于30m3/h，全量程数显复合真空计量程：1×105～1×10-5Pa； 3.▲真空极限：优于2.3×10-7Torr；4.★抽速：抽至3.7×10-6 Torr≤20min；5.▲基片台：根据客户要求定制的基片台，最大可处理基片不小于4英寸，基片台配一体式全尺寸挡板，挡板开合需要磁流体密封；基片台需要设计旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，基片台旋转需要磁流体密封；基片台加热：PID智能温控表，控温范围室温～600℃；6.★阴极靶：不少于3只2英寸圆形平面靶，需采用原装进口品牌，靶头内部需采用全金属密封，不得采用胶圈密封，以满足超高真空应用。靶材安装不需要固定压环，暗区屏蔽装置高度低于靶材表面，减少对辉光区域的束缚，并降低靶材之外材料被同时溅射出来的几率。靶头可调整角度不小于±45°，可单靶轮流/多靶聚焦共溅射； 7.溅射电源：直流电源和直流脉冲电源各1台，要求可切换恒压，恒流，恒功率控制模式，电源功率可以预先设置；射频电源1台，要求自动匹配；8.靶挡板：靶上有气动水平打开式挡板，角度与靶倾斜角度同步可调，要求磁流体密封；9.气路系统：不少于三路工艺气体MFC 控制，量程范围需满足工艺制备金属、金属氧化物的需要；要求氩气准确度不低于±0.8sccm；其他工艺气体准确度不低于±0.5sccm；10.操控系统：PLC+触摸屏手自一体操控系统，触摸屏不小于15英寸，真空系统的控制分为手动和自动二种模式，自动模式下，根据腔内压强自动执行相关泵，阀的启闭；可远程监控，软件使用期限：永久有效；11.其它：冷却循环水机1台，制冷量不小于1P；镀膜设备及外围设备（冷水机等）总占地面积不超过1平米； |
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;服务年限:三年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:两年; |
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